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| 作者 |
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崔铮
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| ISBN |
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7040168804
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| 页数 |
： |
293
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| 开本 |
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小16开
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| 封面形式 |
： |
简裝本
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| 出版社 |
： |
高等教育出版社
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| 出版日期 |
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2005-6-1
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| NT$ |
： |
382
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暂时缺货
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| 本书旨在综合介绍近年来微纳米加工技术的进展。全书共分为8章以微纳米加工的关键技术为主线，即微纳米光刻技术，其中包括光学曝光加工，电子束曝光加工，聚焦离子束加工，微纳米图形转移技术，微纳米图形复制技术，重点介绍这写技术的特点，典型设备，关键工艺技术，与其他类似技术的比较，近年来的新发展，未来的发展趋势。在介绍中以国际上近年来发表的文献为基础，包括作者近十余年来在这一领域的研究成果和经验。每一种技术的介绍着重解释清楚基本概念。不偏重于深奥的理论，而侧重于阐述实际应用中所遇到的问题和解决办法。本书的最后一章为微纳米加工技术的应用，包括了当今最热门的高科技领域，如微纳米电子学，高密度磁存储，微机电系统，生物芯片与纳米技术。介绍微纳米加工技术在这些领域的所起的关键作用。全书各章都附有详细的参考文献。本书最后附有中英文名词对照与索引。为读者进一步参阅国外文献资料提供了方便。本书的读者对象为大专院校高年级研究生，大学教师，从事微电子工艺，微系统技术与纳米技术的科学工作者及工程技术人员，从事微电子工艺技术，超大规模集成电路工艺技术的从业人员。 |
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本书集作者多年来的实践经验与研究成果，系统地介绍了微纳米加工技术的基础，包括光学曝光技术、电子束曝光技术、聚焦离子束加技术、X射线曝光技术、各种刻蚀技术和微纳米尺度的复制技术。对各种加工技术着重讲清原理，列举基本的工艺步骤，说明各种工艺条件的由来，并注意给出典型工艺参数。充分分析了各种技术的优缺点及在应用过程中的注意事项。全书强调实用，避免烦琐的数学分析，既注重基础知识又兼顾微纳米加工领域近年来的最新进展及在各高科技领域的应用，并列举了相关参考文献供理步深入研究，因此不论是对初次涉足这一领域的大专院校的本科生和研究生，还是对已经有一定工作经验的专业科技人员，都具有很好的参考价值。
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第1章绪论
1.1微纳米技术与微纳米加工技术
1.2微纳米加工技术的分类
1.3本书的内容与结构
参考文献
第2章光学曝光技术
2.1光学曝光方式与原理
2.2光学曝光的工艺过程
2.3光刻胶的特性
2.4光学掩模版的设计与制作
2.5突破光学曝光分辨率的新技术
2.6光学曝技术的极限
2.7厚胶曝光技术
2.8灰度曝光技术
2.9光学曝光的计算机模拟设计
参考文献
第3章电子束曝光技术
3.1电子光学原理
3.2电子束曝光系统
3.3电子束曝光图形的设计与数据格式
3.4电子束抗蚀剂及其工艺
3.5电子束散射与邻近效应
3.6电子束曝光邻近效应的校正
3.7电子束曝光的计算机模拟
3.8电子束曝光的极限分辨率
参考文献
第4章聚焦离子束加工技术
4.1液态金属离子源
4.2聚焦离子束系统
4.3离子在固体材料中的散射
4.4聚焦离子束加工原理
4.5聚焦离子束加工技术的应用
4.6聚焦离子束曝光技术
4.7聚焦离子束注入技术
参考文献
第5章X射线曝光技术
第6章刻蚀技术
第7章复制技术
第8章微纳米加工技术的应用
中英文名词对照索引
结束语
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