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| 丛书标题 |
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高等院校微电子专业丛书
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| 作者 |
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张兴
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| ISBN |
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7301081456
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| 页数 |
： |
358
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| 开本 |
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小16开
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| 封面形式 |
： |
简裝本
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| 出版社 |
： |
北京大学出版社
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| 出版日期 |
： |
2005-6-1
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| NT$ |
： |
314
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配送说明： 国际快递 ， 海运邮递 。
付款说明： 1. VISA、MASTER線上刷卡 2. 信用卡传真刷卡付款 3.
邮政划拨 4. 银行汇款
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涵盖了半导体物理和器件物理基础知识，集成电路基础知识，设计制造、最新技术以及发展趋势。
本书是在2000年1月北京大学出版社出版的《微电子学概论》一书的基础上形成的，本书主要介绍了微电子技术的发展历史，半导体物理和器件物理基础知识，集成电路及SOC的制造、设计以及计算机辅助设计技术基础，光电子器件，微机电系统技术和纳电子器件等的基础知识，最后给出了微电子技术发展的一些规律和展望。本书的特点是外行的人能够看懂，通过阅读这本书能够对微电子学能有一个总体的、全面的了解；同时让内行的人读完之后不觉得肤浅，体现了微电子学发展极为迅速的特点，将微电子学领域中的一些最新观点、最新成果涵盖其中。
本书可以作为微电子专业以及电子科学与技术、计算机科学与技术等相关专业的本科生和研究生的教材和教学参考书，同时也可以作为从事微电子或电子信息技术领域工作的科研开发人员、项目管理人员全面了解微电子技术的参考资料。
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序言
第二版前言
前言
第一章 绪论
1.1 晶体管的发展
1.2 集成电路的发展历史
1.3 集成电路的分类
第二章 半导体物理和器件物理基础
2.1 半导体及其基本特征
2.2 半导体中的载流子
2.3 PN结
2.4 双极晶体管
2.5 MOS场效应晶体管
第三章 大规模集成电路基础
3.1 半导体集成电路概述
3.2 双极集成电路基础
3.3 MOS集成电路基础
3.4 MICMOS集成电路基础
第四章 集成电路制造工艺
4.1 双极集成电路艺流程
4.2 MOS集成电路工艺流程
4.3 光刻与刻蚀技术
4.4 氧化
4.5 扩散与离子注入
4.6 化学气相淀各（CVD）
4.7 接触与互连
4.8 隔离技术
4.9 封装技术
4.10 集成电路工艺小结
第五章 集成电路设计
5.1 集成电路的设计特点与设计信息描述
5.2 集成电路的设计流程
5.3 集成电路的设计规则和全定制设计方法
5.4 专用集成电路的设计方法
5.5 几种集成电路设计方法的比较
5.6 可测性设计技术
5.7 集成电路设计举例
第六章 集成电路设计的EDA系统
……
第七章 系统芯片（SOC）设计
第八章 光电子器件
第九章 微机电系统
第十章 纳电子器件
第十一章 微电子技术发展的规律和趋势
附录A 微电子学领域大事记
附录B 微电子学常用缩略语
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