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| 作者 |
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刘玉岭李薇薇周建伟
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| ISBN |
： |
7502565485
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| 页数 |
： |
350
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| 开本 |
： |
16开
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| 封面形式 |
： |
简裝本
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| 出版社 |
： |
化学工业出版社
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| 出版日期 |
： |
2005-7-1
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| NT$ |
： |
418
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暂时缺货
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本书介绍了超大规模集成电路相关的化学技术。全书共分11章，内容涉及硅材料及硅化合物化学性质、衬底加工、环境净化、净化水的制备、净洗技术、硅气相外延、键合、微机械加工、器件氧化、扩散与离子注入、制版、蚀刻、多层布线与全局平面化、电镀与化学镀以及金属处理。
本书可作为电子科学与技术学科高等教材，也可作为教师、研究生的专业参考书，同时对从事微电子方面的企业和科研单位的专业技术人员也有重要的参考价值。
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微电子化学技术基础
目录
1硅材料及硅化合物化学性质·············1
1.1硅的化学性质·······1
1.2硅化合物的化学性质··················2
1.3超净高纯试剂·····19
1.4半导体工业用化学品················40
1.5电子工业用光刻胶、涂料和黏合剂···················47
2超大规模集成电路衬底加工技术工程···················64
2.1硅单晶的加工成形技术············64
2.2超大规模集成电路硅衬底的抛光···················77
参考文献···················86
3微电子技术中的环境净化技术工程88
3.1厂房的洁净技术基础················88
3.2高纯气体制备机理···················95
3.3超净高纯试剂纯化机理···········119
4洗净工程中净化水的制备机理······123
4.1天然水中的杂质124
4.2超纯水··············126
4.3离子交换树脂····129
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